多模态分层成像用于在大体积组织中定位特定细胞靶标作者：Irene U. Wacker1,2, Lisa Veith3, Waldemar Spomer2,4, Andreas Hofmann2,4, Marlene Thaler5, Stefan Hillmer6, Ulrich Gengenbach2,4, Rasmus R. Schröder1,2,3关键词：发育生物学，第133期，阵列...

多模态分层成像用于在大体积组织中定位特定细胞靶标作者：Irene U. Wacker1,2, Lisa Veith3, Waldemar Spomer2,4, Andreas Hofmann2,4, Marlene Thaler5, Stefan Hillmer6, Ulrich Gengenbach2,4, Rasmus R. Schröder1,2,3关键词：发育生物学，第133期，阵列...

实验室型等离子清洗机品牌：CryoNexis 型号：CPC-F系列产品展示:01工作原理介绍我公司推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。产品性能稳定，操作简单方便，易维护。应用于材料学、微电子、半导体、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，主要用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等目的。02主要技术参数:03产品特点7寸彩...

辉光放电清洗仪品牌：CryoNexis 型号：GD100产品展示:01工作原理介绍TEM 载网、硅片等实验物品的亲水化处理，可用于负染色、超薄切片、玻璃态冷冻投入和连续切片等电镜样品制备实验的前处理，显著提升实验效率和成功率。02主要技术参数:等离子电流0 至 30 mA电源功率30W 额定辉光放电头极性可切换正极或负极样品台尺寸Ø90mm，带 25×75mm 载玻片凹槽辉光放电处理时间1s...

单束离子研磨仪型号：HSC121产品展示:01原理介绍HSC 121单离子束研磨仪 ，配备一把鞍型场离子枪及不同的样品台和装样工装 ，用于对样品进行高精度抛光和切割。02主要技术参数:真空系统• 真空获得：前级机械泵，后级分子泵• 极限真空：优于10-4Pa离子枪• 离子枪种类：鞍型场枪，非聚焦• 离子枪数量：1把• 离子枪加速电压：0~10kV• 离子枪工作电流：最大6mA• 离子枪工作气...

射频方式的非金属靶材镀膜 什么是射频射频射频（RF）溅射技术是制备非金属材料薄膜的核心工艺，其通过高频交变电场有效解决了绝缘靶材在沉积过程中的电荷积累问题，从而实现了氧化物、氮化物及陶瓷等介电材料的高质量镀膜 。与直流（DC）溅射仅适用于导电靶材不同，RF溅射利用频率通常为13.56 MHz的射频电源，使等离子体中的电子能够跟随电场快速振荡，从而在绝缘靶表面形成负的直流自偏压，维持放电的连续...